专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]晶圆基板布线方法、装置及可读存储介质-CN202311102899.3在审
  • 叶德好;万智泉;邓庆文 - 之江实验室
  • 2023-08-30 - 2023-10-03 - H01L23/485
  • 本申请涉及一种晶圆基板布线方法、装置及可读存储介质,应用于晶上系统,晶上系统包括依次连接的标准预制件、晶圆基板和芯片配置基板,晶圆基板包括多个重布线层;该方法包括:获取点阵列中各的位置信息、与各分别连接的标准预制件管脚的功能信息,以及焊盘阵列中各焊盘的位置信息、与各焊盘分别连接的芯片配置基板管脚的功能信息;基于各的位置信息和对应的功能信息,以及与对应的焊盘的位置信息,生成各焊盘对应的布线路径和通孔,以连接与对应的焊盘,焊盘对应的功能信息与对应的功能信息相同,实现晶圆基板的自动绕线,解决了缺少晶圆基板自动布线方法的问题。
  • 晶圆基板布线方法装置可读存储介质
  • [发明专利]提高可靠性的结构及制作方法-CN201410346165.4有效
  • 何洪文;孙鹏;曹立强 - 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司
  • 2014-07-18 - 2014-10-08 - H01L23/485
  • 本发明涉及一种提高可靠性的结构及制作方法,包括半导体基体,半导体基体正面设有钝化层,钝化层中设置结构,结构包括设置于半导体基板表面的焊盘、设置于焊盘表面的种子层和设置于种子层上的;其特征是:在所述结构的外周的钝化层上设置刻蚀槽。所述结构的制作方法,采用以下步骤:在半导体基板上制作焊盘和钝化层;在钝化层上刻蚀形成开窗,开窗的位置与焊盘一一对应;在钝化层上表面制作种子层;在种子层上涂覆光刻胶;将焊盘上方的光刻胶去除,将焊盘周围的光刻胶、种子层和钝化层去除;在焊盘上制作,进行回流焊,形成。本发明有效防止裂纹的扩展,提高可靠性。
  • 提高可靠性微凸点结构制作方法
  • [发明专利]铟铁晶材料及铟铁晶压电盘制备方法-CN202210533636.7在审
  • 林铭;林逸彬;李柏森;潘威;黄俊铭 - 林铭
  • 2022-05-17 - 2022-08-05 - H01L41/047
  • 本发明公开了铟铁晶材料及铟铁晶压电盘制备方法,本发明的铟铁晶材料及铟铁晶压电盘制备方法,是在厚度小于4mm的工业纯铁或钢或含铁超过40%(Wt%)合金材料表面,设一含铟超过50%(Wt%)且含铁超过10%(Wt%)且含铟和铁共超过70%(Wt%)的复合材料层,在复合材料层表面设有许多个晶,每个晶高度不大于100nm、直径不大于100nm的顶部为球状或近似球状,或晶高度不大于100nm的近似椭圆、椭圆最大长度不超过200nm的顶部为球状或近似球状或近似椭圆状,晶含铟超过50%(Wt%)且含铟和铁共超过70%(Wt%),晶与复合材料层成为一体;零件表面复合材料层和基体材料成为一体,形成铟铁晶材料。
  • 铟铁凸点微晶材料压电制备方法
  • [发明专利]一种新型大马士革铜铜键合结构的制作方法-CN201310721130.X有效
  • 薛恺;于大全 - 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司
  • 2013-12-24 - 2014-04-30 - H01L21/768
  • 本发明提供了一种新型大马士革铜铜键合结构的制作方法,有效降低了铜柱表面粗糙度,提高了的表面平整度,保证了晶圆不同区域的高度的一致,满足铜铜键合工艺对表面平整度的要求,在后续的组装工艺中不用做底填工艺,在降低工艺复杂度的同时,提高键合结构的可靠性,其特征在于:(1)在晶圆表面制作粘附层和种子层;(2)在晶圆表面淀积铜层;(3)对铜层进行图形化;(4)去除位置以外的铜形成结构;(5)去除区域以外的粘附层形成电隔离的结构;(6)去除光刻胶得到结构;(7)在结构间填充涂覆介质层;(8)对晶圆表面进行处理得到高度均匀,表面平坦光滑的介质层和外露的结构。
  • 一种新型大马士革铜铜键合结构制作方法
  • [发明专利]铟复合织构-CN202110717599.0在审
  • 林绍义;林雪莲;林逸彬 - 福建船政交通职业学院
  • 2021-06-28 - 2021-10-22 - H01S3/02
  • 本发明涉及铟复合织构,所述的铟复合织构是在零件表面设一含铟超过60%(Wt%)且含铟和铁共超过70%(Wt%)的复合材料层,在复合材料层表面设有许多个晶,每个晶高度大于100nm且小于500μm、直径大于100nm且小于500μm的顶部为球状或近似球状、含铟超过60%(Wt%)且含铟和铁共超过70%(Wt%),晶与复合材料层成为一体。所述的晶的形状和尺寸可变化。
  • 复合微晶凸点织构
  • [发明专利]一种三维粗糙表面体拟合方法-CN201811155174.X有效
  • 唐进元;温昱钦 - 中南大学
  • 2018-09-30 - 2022-12-13 - G06F30/17
  • 本发明公开了一种三维粗糙表面体拟合方法,包括以下步骤:a.测量待拟合粗糙表面的表面形貌离散高度矩阵z(i,j);b.计算得到表面平均高度面h0,取其为拟合参考面;c.对表面形貌离散进行分割,划分为若干封闭区域;d.根据拟合参考面以及表面形貌离散高度之间的相互关系,对每一个封闭区域内的离散进行判断,将符合体特征的离散序列判定为体;e.以步骤d中判定得到的体,根据最小均方误差,用椭球面对每个体的离散进行拟合,得到拟合后椭球方程,据此计算体平均曲率半径、体密度、体峰点高度标准偏差等表面体参数。本发明的一种三维粗糙表面体拟合方法,具有测量精确的优点。
  • 一种三维粗糙表面微凸体拟合方法

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